海关编码

基本信息
商品编码 8486202100
商品名称 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
英文名称 Chemical vapor deposition devices for manufacturing semiconductor devices or integrated circuits
商品描述 化学气相沉积装置
英文描述 Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
计量单位 台,千克
编码状态 正常
更新时间 2023-01-04
税率信息
出口税率 0%
出口退税税率 13%
增值税率 13%
最惠国税率 0%
进口普通税率 30%
消费税率 -
协定税率
国家 税率
智利 0%
巴基斯坦 0%
新西兰 0%
秘鲁 0%
哥斯达黎加 0%
瑞士 0%
冰岛 0%
澳大利亚 0%
韩国 0%
格鲁吉亚 0%
毛里求斯 0%
RCEP税率
国家 税率
澳大利亚 0%
文莱 0%
柬埔寨 0%
韩国 0%
老挝 0%
马来西亚 0%
新西兰 0%
新加坡 0%
泰国 0%
越南 0%
日本 0%
申报要素
序号 名称
1 品牌类型
2 出口享惠情况
3 用途
4 功能
5 品牌(中文或外文名称)
6 型号
7 GTIN
8 CAS
9 其他
所属章节
第16类 机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
84 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8486 专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:
84862 制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:
8486202 薄膜沉积设备:
84862021 化学气相沉积装置(CVD)
CIQ代码(13位海关编码)
编码 名词
8486202100999 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))